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產品內容
Halocarbon 41 / Fluoromethane
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 70
O2 20
H2O 10
HF 0.1
*ppm
Application
Halocarbon 41 is used in the etching application for DRAM and Semiconductor industry.
Product Specification
Purity 99.99%
N2 70
O2 20
H2O 10
HF 0.1
*ppm
礙子
公司資訊
- 統一編號28877776
- 聯絡人陳先生
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